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华为请求低功耗晶体管及芯片专利下降晶体管功耗
发表时间: 来源:水处理工程

  金融界 2024 年 10 月 29 日音讯,国家知识产权局信息数据显现,华为技术有限公司请求一项名为“低功耗晶体管及芯片”的专利,公开号 CN 118825058 A,请求日期为 2023 年 4 月。

  专利摘要显现,本请求施行例供给一种低功耗晶体管及芯片,其间,低功耗晶体管包含衬底、层叠于衬底上的源极、沟道、栅极绝缘层、栅极、以及与源极距离设置的漏极;其间,在平行于衬底方向上,源极经过沟道与漏极电衔接;栅极绝缘层层叠于沟道之上,栅极层叠于栅极绝缘层之上;源极为线状的源极,源极对应的第一个范霍夫奇点 VHS 对应的沟道势垒介于低功耗晶体管的阈值电压和开态电压对应的沟道势垒之间,第一个范霍夫奇点 VHS 与源极的本征费米面 E 之间的差值在预设规模以内施行本请求施行例可以更好的下降晶体管功耗。

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